特許
J-GLOBAL ID:200903074692131028

積層構造体及び圧電アクチュエータ、並びに、それらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡部 温 ,  宇都宮 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-246142
公開番号(公開出願番号):特開2005-101577
出願日: 2004年08月26日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 電極の剥がれが生じ難い積層構造体及びその製造方法等を提供する。 【解決手段】 積層構造体は、支持基板10と、金属酸化物を含む密着層11と該密着層を介して支持基板上に形成された導電層12とを含む下部電極と、該下部電極上に配置された誘電体層13と、該誘電体層上に配置された上部電極とを有する。また、その製造方法は、支持基板上に金属酸化物を含む密着層を介して導電層を形成することにより下部電極を配置するステップ(a)と、誘電体材料の粉体を下部電極に吹き付けて堆積させることにより誘電体層を配置するステップ(b)と、誘電体層を熱処理するステップ(c)と、ステップ(c)の前又は後に、誘電体層上に上部電極を配置するステップ(d)とを含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持基板と、 金属酸化物を含む密着層と、前記密着層を介して前記支持基板上に形成された導電層とを含む第1の電極と、 前記第1の電極上に配置された誘電体層と、 前記誘電体層上に配置された第2の電極と、 を具備する積層構造体。
IPC (5件):
H01L41/09 ,  H01L41/083 ,  H01L41/18 ,  H01L41/187 ,  H01L41/22
FI (5件):
H01L41/08 L ,  H01L41/08 Q ,  H01L41/18 101D ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 Z
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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