パターン検査方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-311248
公開番号（公開出願番号）：特開2000-137003
出願日： 1998年10月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】本発明は、疑似欠陥の影響を受けることなく欠陥検出感度を上げることができ、また、複雑な形状のパターンのパターン間の整合がとれていない欠陥の検出を簡単かつ短時間に行うことのできるパターン検査方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】第1の受光素子14Bで検査試料から実際にパターンを撮像し、第1の受光素子で撮像したパターンの重心座標を計算し、第2の受光素子14Aで前記検査試料から実際にパターンを撮像し、第2の受光素子で撮像したパターンの重心座標を計算し、第1の受光素子で撮像したパターンの重心座標と、第2の受光素子で撮像したパターンの重心座標とを比較してパターン欠陥を検出する。このため、疑似欠陥の影響を受けることなく欠陥検出感度を上げることができ、また、複雑な形状のパターンのパターン間距離による欠陥検出を簡単かつ短時間に行うことができる。

請求項（抜粋）：

第1の受光素子で検査試料から実際にパターンを撮像し、前記第1の受光素子で撮像したパターンの重心座標を計算し、第2の受光素子で前記検査試料から実際にパターンを撮像し、前記第2の受光素子で撮像したパターンの重心座標を計算し、前記第1の受光素子で撮像したパターンの重心座標と、前記第2の受光素子で撮像したパターンの重心座標とを比較してパターン欠陥を検出することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (2件)：

G01N 21/88 645 A , H01L 21/66 J

Fターム (18件)：

2G051AA56 , 2G051AC21 , 2G051CA04 , 2G051CB02 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA16 , 2G051EB01 , 2G051ED08 , 2G051ED23 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106BA20 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB21 , 4M106DJ11

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-236316
特開昭63-136541
特開平4-236316

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