特許
J-GLOBAL ID：200903074742096059
化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-278136
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104517
出願日： 1992年09月22日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】化学励起沃素レーザー装置の排ガスから高純度の希ガスを効率良く回収し、希ガスの再使用によりレーザー装置のランニングコストを低減することを目的とする。【構成】希ガスと不純物(酸素とハロゲン)を含有する化学励起沃素レーザー装置の排ガスに水素を添加し、触媒の存在下で排ガス中の不純物を除去し易い化合物(水蒸気とハロゲン化水素)に変換し、生成した化合物を排ガスから除去することにより、希ガスを回収することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
希ガスと酸素ガスとハロゲンガスとを含有する化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収するに当り、前記排ガスに水素を添加し、触媒の存在下で排ガス中の酸素を水蒸気に転化すると共にハロゲンをハロゲン化水素に転化し、生成した水蒸気とハロゲン化水素を排ガスから除去し、高純度の希ガスを得ることからなる、化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収する方法。
IPC (3件)：
H01S 3/0951
, B01D 53/36
, C01B 23/00
