特許
J-GLOBAL ID：200903074742360830
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-134411
公開番号（公開出願番号）：特開平9-298043
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【目的】 大面積のイオンビ-ムを発生し対象物にイオンを注入する装置であって、対象物の過熱を防ぐために不要なイオンと必要なイオンを質量分離できるようにしたイオン注入装置を与える事。【構成】 大面積イオン源の出口にスリット状の長穴あるいは小穴の集合を設け、イオン源において複数の平行なシートビームを発生させ、シートビーム毎に磁石を設けてシートビームと平行な方向にイオンビ-ムを曲げる事により質量分離し、所望の質量のイオンのみが対象物に照射されるようにした。さらにシートビームを面に直角方向に走査させ或いは対象物を走査させてビームシートの隙間を埋め、対象物表面一様にイオンビ-ムを照射できる。
請求項（抜粋）：
大面積のイオンビ-ムを生成し引き出し口が複数のスロットになっており平行な複数のシート状のシートビームを引き出すイオン源と、シートビームの間隙部分に設けられシートビームに垂直な磁場を発生し各シートビームをシート面内に偏向させ質量分離を行う複数の偏平な磁極を持つ磁石或いは複数の偏平な独立した磁石群と、所望の質量を持つイオンビ-ムが通過する位置に対象物を保持する保持機構とを含むことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/08
, H01J 37/20
, H01L 21/265
H01J 37/317 Z
, C23C 14/48 B
, H01J 37/08
, H01J 37/20 A
, H01L 21/265 D
