特許
J-GLOBAL ID：200903074748387373
洗浄処理後の基板の乾燥処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-092432
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283497
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 基板にスチームを供給し基板を加熱して乾燥処理する際に、基板に対し効率良くスチームを供給して基板が速やかに加熱されるようにし、複数の基板に対し均等にかつそれぞれの基板の全表面に対しむらなくスチームが供給されるようにし、スチームの熱量が基板の加熱に有効に利用されるようにする。【構成】 洗浄槽12内の純水18中から引き上げられた基板Wを加熱する基板加熱部14の基板収容室20の上・下開口部を上・下シャッター36、38で閉塞可能にし、基板収容室内の基板に対しスチームを均一に分散させて供給するスチーム供給部26と、基板の加熱に使用されたスチームを吸引して排気するスチーム排気部30とを、基板収容室を介在させて対向配設する。加熱後の基板は、基板乾燥部16へ移送されて表面の付着水分を一気に蒸発させる。
請求項（抜粋）：
洗浄槽内に収容された純水又は洗浄用薬液中に浸漬された基板を純水又は洗浄用薬液中から引き上げ上方へ移動させる基板移動機構と、前記洗浄槽の上方にそれと隣接して配設され、純水又は洗浄用薬液中から引き上げられた基板に対しスチームを供給して基板を加熱する基板加熱部と、この基板加熱部の上方にそれと隣接して配設され、スチームによって加熱された基板の表面の付着水分を蒸発させる基板乾燥部とからなり、前記洗浄槽、基板加熱部及び基板乾燥部を鉛直方向に連続して配置した、洗浄処理後の基板の乾燥処理装置において、前記基板加熱部を、上下方向に貫通するように形設された基板収容室と、この基板収容室の上・下開口部をそれぞれ開閉自在に閉塞する上・下シャッターと、スチーム供給源に連通接続され、前記基板収容室内へスチームを水平方向に吹き出し基板収容室に収容された基板に対しスチームを均一に分散させて供給するスチーム供給部と、前記基板収容室を介在させて前記スチーム供給部の反対側に配設され、スチーム供給部から基板収容室内へ吹き出され基板の加熱に使用されたスチームを吸引して排気するスチーム排気部とから構成したことを特徴とする、洗浄処理後の基板の乾燥処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 361
, F26B 9/06
