特許
J-GLOBAL ID：200903074757044802
回折格子の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-222654
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069605
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 不均一な深さの溝を具えた回折格子を、短時間で、歩留良く、浅い溝と深い溝とを平行にして、形成する方法を提供すること。【構成】 N型InP基板10上にポジ型レジスト層38を形成する(図1の(A))。次に、N型InP基板の浅い溝の形成予定位置40上のポジ型レジスト層部分には100μC/cm2 のドーズ量、一方、深い溝の形成予定位置42上のポジ型レジスト層部分には200μC/cm2 のドーズ量となる様に電子ビ-ムを照射する。露光したポジ型レジスト層を現像して、図1の(B)に示す浅い開口部および深い開口部を有するレジストパターンを形成する。このレジストパターンを介在させてN型InP基板に対し1回のドライエッチングを行って、不均一な深さの溝を具えた回折格子を形成する(図1の(C))。
請求項（抜粋）：
不均一な深さの溝を具えた回折格子の形成にあたり、基板上にポジ型レジスト層を設け、該ポジ型レジスト層に深さの異なる複数の開口部を形成して、レジストパターンを得る工程と、該レジストパターンを介在させて前記基板に対し1回のドライエッチングを行って該基板に深さの異なる複数の溝を形成する工程とを含むことを特徴とする不均一な深さの溝を具えた回折格子の形成方法。
IPC (2件)：
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