ろ過装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-220108
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038107
出願日： 1999年08月03日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】ろ過装置における余裕の容積を有効利用し、かつろ材の洗浄を効果的に行う。【解決手段】第1ろ過層24aの上方に中間部24gをおいて第2ろ過層24bが配置される。この第2ろ過層24bは、支持網24cによって、支持されている。被処理水は下降流で流通され、第2ろ過層24bで一時的なろ過および吸着処理を受けた後、残留の固形物が第1ろ過層24aでろ過される。逆洗時には、第1ろ過層24aのろ過の際に逆洗排水が中間排水管24hから排出されるため、第1ろ過層24aにおいて、大きな線速度で逆洗しても第2ろ過層24bへの悪影響はない。また、第2ろ過層24bは、第1ろ過層24a上のろ過圧発生のための容積内に配置されるため、ろ過装置における余裕の体積を有効利用できる。

請求項（抜粋）：

下向流にてろ過処理を行うろ過処理装置であって、第1ろ材が充填され、通過する被処理水から懸濁質を分離する第1ろ過層と、この第1ろ過層の上方に、第1ろ過層の表面から離間して配置され、第1ろ材より粒径の大きい第2ろ材が充填された第2ろ過層と、この第2ろ過層の第2ろ材を支持する支持体と、を有することを特徴とするろ過装置。

IPC (3件)：

B01D 24/02 , B01D 36/04 , C02F 1/28

FI (3件)：

B01D 23/10 A , B01D 36/04 , C02F 1/28 F

Fターム (17件)：

4D024AA04 , 4D024AA05 , 4D024BA02 , 4D024BB01 , 4D024BC02 , 4D024CA01 , 4D024CA04 , 4D024DA02 , 4D024DB02 , 4D041BA02 , 4D041BA28 , 4D041BB03 , 4D041BB08 , 4D041BC11 , 4D066AA02 , 4D066BB02 , 4D066FA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭51-142854
特開昭58-055016

審査官引用 (2件)

特開昭51-142854
特開昭58-055016

前のページに戻る