特許
J-GLOBAL ID:200903074764492780

固形石鹸組成物

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-036154
公開番号(公開出願番号):特開平8-209198
出願日: 1995年01月31日
公開日(公表日): 1996年08月13日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】一般式Aのイセチオネート型陰イオン界面活性剤20〜55重量%、一般式Bのスルホコハク酸型陰イオン界面活性剤5〜45重量%、高級アルコール1〜25重量%、高級脂肪酸1〜25重量%、ケイ酸又はその誘導体1〜15重量%、水2〜15重量%からなる固形石鹸組成物。(RはC7〜19のアルキル基またはアルケニル基、Mはアルカリ金属、NH4又はアルカノールアンモニウムイオンを示す。)(RはC7〜19のアルキル基またはアルケニル基、M1,M2はアルカリ金属、NH4又はアルカノールアンモニウムイオンを示す。)【効果】皮膚への刺激、使用時のふやけ、溶け崩れが少なく、使用後石けん容器に放置した場合の付着性等が改良され、使用感が良く、顔面用、身体用として好適な固形石鹸組成物である。
請求項(抜粋):
下記一般式(A)【化1】(式中、Rは炭素数7〜19のアルキル基またはアルケニル基、Mはアルカリ金属、NH4 又はアルカノールアンモニウムイオンを示す。)で表されるイセチオネート型陰イオン界面活性剤を20〜55重量%と、下記一般式(B)【化2】(式中、Rは炭素数7〜19のアルキル基またはアルケニル基、M1 、M2 はアルカリ金属、NH4 又はアルカノールアンモニウムイオンを示す。)で表されるスルホコハク酸型陰イオン界面活性剤を5〜45重量%と、高級アルコールを1〜25重量%と、高級脂肪酸を1〜25重量%と、ケイ酸又はその誘導体を1〜15重量%と、水を2〜15重量%とを含有することを特徴とする固形石鹸組成物。
IPC (9件):
C11D 10/04 ,  A61K 7/50 ,  C11D 9/08 ,  C11D 9/26 ,  C11D 9/32 ,  C11D 9:04 ,  C11D 1:28 ,  C11D 9:26 ,  C11D 9:08
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭63-225700
  • 特開昭63-230799
  • 特開平1-256598

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