特許
J-GLOBAL ID:200903074799816724

可変形状ミラー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-285571
公開番号(公開出願番号):特開2003-090970
出願日: 2001年09月19日
公開日(公表日): 2003年03月28日
要約:
【要約】【課題】反射面が大きく変形し得る可変形状ミラーを提供する。【解決手段】可変形状ミラー100は、円形の開口部114を有する支持枠112と、開口部114を覆って支持枠112に保持された弾性変形可能な絶縁膜120と、絶縁膜120の表面に形成された反射面126と、絶縁膜120の内部に形成された平面コイル132と、平面コイル132を横切る磁界を発生させる永久磁石142とを備えている。絶縁膜120は二層構造のポリイミド膜122,124で構成され、平面コイル132はそれらの間に位置し、開口部114の内側をほぼ円形に周回している。反射面126は、開口部114の内側に位置し、平面コイル132を取り囲む領域を覆っている。平面コイル132は配線134と配線136を介して電流を供給するための外部電源装置に接続される。
請求項(抜粋):
円形の開口部を有する支持枠と、開口部を覆って支持枠に保持されている弾性変形可能な絶縁膜と、絶縁膜の表面に形成されている反射面と、絶縁膜の内部に形成されている複数本の駆動線と、駆動線を横切る磁界を発生させるための磁界発生手段とを備えており、複数本の駆動線は、開口部の内側に位置し、開口部の輪郭に沿って周回しており、反射面は、駆動線を取り囲む領域を覆っており、磁界発生手段は、周回している駆動線を、絶縁膜の表面にほぼ平行に、放射状に横切る成分を含む磁界を発生させ、支持枠と絶縁膜と駆動線は、半導体微細加工技術によって形成されており、磁界発生手段により発生される磁界と駆動線に流れる電流との相互作用によって引き起こされる絶縁膜の弾性変形に従って反射面が変形される、可変形状ミラー。
IPC (3件):
G02B 26/08 ,  G02B 5/10 ,  G02B 7/182
FI (4件):
G02B 26/08 E ,  G02B 5/10 B ,  G02B 5/10 C ,  G02B 7/18 Z
Fターム (16件):
2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AB38 ,  2H041AC04 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ05 ,  2H041AZ08 ,  2H042DA01 ,  2H042DA11 ,  2H042DA20 ,  2H042DC01 ,  2H042DC08 ,  2H042DD11 ,  2H043CA10 ,  2H043CB01 ,  2H043CD04

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