現像処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-010694
公開番号（公開出願番号）：特開2008-177436
出願日： 2007年01月19日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：

【課題】基板裏面の洗い残しや基板汚染を無くし、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、駆動動力の低減を図れるようにする。【解決手段】基板Gを回転可能に保持する回転基台2と、回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された基板の外周部を囲む、基板の表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための助走ステージ3と、回転基台に対して昇降移動可能で、かつ基板を吸着して保持する基板保持台4と、基板保持台に保持された基板の表面に沿って移動して基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド5とを設ける。基板保持台が基板を吸着保持すると共に、第1及び第2の環状シール部材25a,25bを介して基板保持台と助走ステージ及び回転基台が密着して液貯留空間7を形成し、吸着保持の解除及び密着が解除された状態で、回転基台及び助走ステージと共に基板を回転可能にする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲む、被処理基板の表面の同一平面上、若しくは、僅かに高い被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ上記被処理基板を吸着して保持する基板保持台と、上記基板保持台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、上記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、を具備し、上記基板保持台が被処理基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して上記基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と上記回転基台が密着して液貯留空間を形成し、上記吸着保持の解除及び上記密着が解除された状態で、上記回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転可能に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/30

FI (3件)：

H01L21/30 569C , G03F1/08 L , G03F7/30 502

Fターム (10件)：

2H095BB15 , 2H095BB30 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096GA29 , 5F046JA05 , 5F046LA05 , 5F046LA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-046211 出願人：東京エレクトロン株式会社

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