特許
J-GLOBAL ID：200903074806390460
赤外線ガス分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-117953
公開番号（公開出願番号）：特開平8-285773
出願日： 1995年04月18日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【目的】 測定側光路における光量と比較側光路における光量の調整を容易かつ精度よく行え、さらには、自動化をも行えるようにした赤外線ガス分析装置を提供すること。【構成】 測定ガスSが供給される測定セル1と比較ガスが封入された比較セル2とを並列的に設け、これらのセル1,2を赤外光源3,4によって個別に照射するように構成された赤外線ガス分析装置において、前記赤外光源3,4としてパルス点灯光源を用いるとともに、このパルス点灯光源3,4を駆動するパルスにおけるパルス占有率を個別に制御して、各パルス点灯光源3,4に供給する電力を調整するようにした。
請求項（抜粋）：
測定ガスが供給される測定セルと比較ガスが封入された比較セルとを並列的に設け、これらのセルを赤外光源によって個別に照射するように構成された赤外線ガス分析装置において、前記赤外光源としてパルス点灯光源を用いるとともに、このパルス点灯光源を駆動するパルス電圧におけるパルス占有率を個別に制御して、各パルス点灯光源に供給する電力を調整するようにしたことを特徴とする赤外線ガス分析装置。
引用特許：
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