特許
J-GLOBAL ID：200903074824657946
バリア性積層体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217959
公開番号（公開出願番号）：特開2003-025476
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】本発明は、単独の酸化金属薄膜のみを有するバリア性積層体では得られないような、優れたバリア性を有し、しかも金属箔や金属薄膜を有するバリア性積層体等では得ることのできない透明性をも有するバリア性積層体の提供を目的とする。【解決手段】透明プラスチックからなる基材上に、酸化アルミニウムや酸化錫等からなる第1の酸化金属薄膜と、プラズマ活性化CVD法により形成されたシリコン窒化膜、炭化シリコン膜等のシリコン化合物薄膜と、第2の酸化金属薄膜を順次積層する。
請求項（抜粋）：
透明プラスチックからなる基材上に、第1の酸化金属薄膜とプラズマ活性化CVD(Chemical Vapor Deposition)法により形成されたシリコン化合物薄膜と第2の酸化金属薄膜とが順次積層されていることを特徴とするバリア性積層体。
Fターム (21件)：
4F100AA17B
, 4F100AA17D
, 4F100AA19B
, 4F100AA19D
, 4F100AA20C
, 4F100AD05C
, 4F100AD08C
, 4F100AK01A
, 4F100AK42
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100EH66C
, 4F100GB16
, 4F100JD02
, 4F100JM02B
, 4F100JM02C
, 4F100JM02D
, 4F100JN01
, 4F100JN01A
