特許
J-GLOBAL ID:200903074833658157
Si発光素子とその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-230160
公開番号(公開出願番号):特開平6-077527
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月18日
要約:
【要約】【目的】 発光が可能なヘテロダイオード型Si発光素子に関し、電気的にポーラスSi、すなわちSi量子細線束を発光させることができ、かつその脆弱さを補強した新規なSi発光素子およびその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 p型導電性を有する量子サイズ細線状のポーラスSi層と、n型導電性を有し、前記ポーラスSi層とpn接合を形成する導電性ポリマー層と、前記ポーラスSi層、導電性ポリマー層のそれぞれに対する電極とを有する。
請求項(抜粋):
p型導電性を有する量子細線状のポーラスSi層(1)と、n型導電性を有し、前記ポーラスSi層とpn接合を形成する導電性ポリマー層(2)と、前記ポーラスSi層(1)、導電性ポリマー層(2)のそれぞれに対する電極(3)、(4)とを有するSi発光素子。
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