特許

J-GLOBAL ID：200903074837269260

レーザマーカ

発明者： 武久 究 ,  矢野 眞 ,  桑原 皓二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-192861
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034927
出願日： 1991年08月01日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】レーザ光をパターン形成用の液晶マスクに通し、液晶マスク上のパターンを被加工物体表面上に転写させる際、フォトレジストなど紫外光のみに感光する物質にもマーキングできるレーザマーカを提供する。【構成】レーザマーカ11では、YAGレーザ発振器1から発振する基本波を、非線形光学素子3aに通して、第二高調波を発生させ、これと残留基本波とを、液晶複合体から成る液晶マスク5に通してから、第二の非線形光学素子3b中に集光させて、発生する紫外光である第三高調波により、液晶マスク5のパターンを、フォトレジスト板6に転写させる。

請求項（抜粋）：

レーザ光をパターン形成用の液晶マスクに通し、前記液晶マスク上の前記パターンを被加工物体の表面上に転写させるレーザマーキングにおいて、前記液晶マスクに入射させる前記レーザ光が、波長1.064μmと波長0.532μmとの二つの波長を含み、かつ、前記液晶マスクから出射する前記レーザ光が、非線形光学素子に入射することを特徴とするレーザマーカ。

IPC (6件)：

G03F 7/20 505 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/37 ,  G03F 1/08 ,  H01L 23/00 ,  H01S 3/108