特許

J-GLOBAL ID：200903074838852237

二酸化ケイ素膜の形成方法

発明者： 河原 秀夫 ,  猪野 壽一 ,  竹村 和夫 ,  立野 稔夫 ,  川澤 吉雄 ,  岡田 章嗣
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社 ,  森田化学工業株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241754
公開番号（公開出願番号）：特開平5-076838
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】 付着二酸化ケイ素粒子の少ない二酸化ケイ素膜を基板表面に形成する。【構成】 フィルターを介して濾過した二酸化ケイ素を過飽和に含むケイフッ化水素酸の水溶液をノズルから噴出させて基板表面に当て、前記基板表面に二酸化ケイ素膜を形成する。

請求項（抜粋）：

二酸化ケイ素を過飽和に含むケイフッ化水素酸の水溶液に基板を接触し、前記基板表面に二酸化ケイ素膜を形成する際に、(イ)二酸化ケイ素を過飽和に含むケイフッ化水素酸の水溶液が、フィルターを介して濾過され、(ロ)濾過後の水溶液が前記基板表面に当るようにノズルから噴出され、(ハ)前記基板と接触したのち飛散した水溶液が集積され、再度(イ)の工程に戻されることを特徴とする二酸化ケイ素膜の形成方法。

IPC (6件)：

B05D 7/24 302 ,  B05D 1/02 ,  B05D 3/00 ,  C01B 33/12 ,  G11B 7/26 531 ,  H01L 21/316

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-022935
  
• 特開昭50-080321
  
• 特開昭60-156578
  
• 特開昭63-147102