特許

J-GLOBAL ID：200903074844231031

放射線像変換パネルおよび製造方法

発明者： 柳多 貴文 ,  高嶋 伸彦
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206964
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053264
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】輝尽性蛍光体層の充填率を上げて、輝尽性蛍光体層の放射線吸収効率を高め、更に、輝度を向上させた高感度の放射線像変換パネルおよびその製造方法の提供にある。【解決手段】支持体上に、少なくとも輝尽性蛍光体を結合剤中に分散し塗布、乾燥し輝尽性蛍光体層を形成した後、該輝尽性蛍光体層を圧縮処理することにより該層中の輝尽性蛍光体の充填率を高め、更に、再焼成を行うことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

支持体上に、少なくとも輝尽性蛍光体を結合剤中に分散し塗布、乾燥し輝尽性蛍光体層を形成した後、該輝尽性蛍光体層を圧縮処理することにより該層中の輝尽性蛍光体の充填率を高め、更に、再焼成を行うことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。

IPC (2件)：

G21K4/00 ,  G01T1/00

FI (2件)：

G21K4/00 L ,  G01T1/00 B

Fターム (7件)：

2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083DD12 ,  2G083DD14 ,  2G083DD15 ,  2G083EE03