特許

J-GLOBAL ID：200903074870809777

殺菌性洗浄剤組成物

発明者： 笹谷 潤 ,  斎藤 雅子
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248565
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072996
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 無機系汚れだけでなく蛋白質等の有機系汚れにも効果的な洗浄力を有する、医療用器具の洗浄に適した殺菌性洗浄剤を開発すること。【解決手段】 本発明は、過酢酸、酢酸、過酸化水素、及び界面活性剤を含有する殺菌性洗浄剤組成物である。界面活性剤は、下記の一般式(1)で表わされる非イオン性界面活性剤が好ましい。R1O-(R2-O)n-H (1)(式中、R1は炭化水素基を表わし、R2はアルキレン基を表わし、nは1以上の数を表わす。)

請求項（抜粋）：

過酢酸、酢酸、過酸化水素、及び界面活性剤を含有する殺菌性洗浄剤組成物。

IPC (5件)：

C11D 3/48 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/39 ,  A61L 2/18

FI (5件)：

C11D 3/48 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/39 ,  A61L 2/18

Fターム (26件)：

4C058AA02 ,  4C058AA06 ,  4C058AA07 ,  4C058AA12 ,  4C058AA17 ,  4C058AA23 ,  4C058AA24 ,  4C058AA25 ,  4C058CC06 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ08 ,  4H003AC08 ,  4H003AC11 ,  4H003AC23 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA12 ,  4H003DA17 ,  4H003DA19 ,  4H003DA20 ,  4H003DB01 ,  4H003EB07 ,  4H003ED02 ,  4H003EE04 ,  4H003EE06 ,  4H003FA34

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 過酢酸およびアミンオキサイドの相乗作用を有する組成物、その使用およびそれにより堅固表面を消毒する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-113898   出願人：シュモクサル・エス・アー, ソシエテ・デクスプロワタシオン・デ・プロデュイ・プール・レ・アンデュストリー・シミック・セピック
• 芳香を有する過酢酸系酸化性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-317937   出願人：稲畑香料株式会社, 日本パーオキサイド株式会社