特許
J-GLOBAL ID：200903074880170723
エマルションの製造方法及びエマルションの製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031882
公開番号（公開出願番号）：特開平9-225291
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】 従来の方法では、粒径分布の広りの少ないエマルションを得ることができない。【解決手段】 供給口14を介して隔壁部材17の内側に供給された分散相(O)は基板18の供給口19を介してプレート16との隙間20に入り、この隙間20に入った分散相(O)はポンプ等の加圧手段による圧力で境界部21を通過して連続相(W)に入り込む。そして、この境界部21を通過する際にマイクロチャネル24によって一定径の粒子となり、連続相(W)に一定径の分散相(O)が分散したエマルション(E)が形成される。
請求項（抜粋）：
一定幅の多数のマイクロチャネルを介して、加圧された分散相を連続相中に強制的に送り込むようにしたことを特徴とするエマルションの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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