特許
J-GLOBAL ID：200903074881993146
非接触型ポテンショメータ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287865
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140685
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】この発明は、組み立て公差等に影響されずに安定した出力が得られ、製造時に歩留まりを高くすることのできる非接触型ポテンショメータを提供することを目的とする。【構成】絶縁基板11の面上に回転軸15部を中心にした円弧に対応して、強磁性体薄膜による抵抗体パターン12を形成し、その両端に電極13、14を形成する。ここで、抵抗体パターン12は電極13から14に向けて順次その幅が広くなるように形成され、この抵抗体パターン12に沿って非接触で移動される永久磁石17が設定される。この永久磁石17は回転軸15と一体の保持体16に接着等で取り付けられ、抵抗体パターン12と交差する方向に磁界が設定され、抵抗体パターン12に飽和磁界が印加されるように着磁設定されている。
請求項（抜粋）：
絶縁基板上に形成され、一方端から他方端に向けて順次幅が異なるような細片状のパターンで形成された磁気抵抗体薄膜により構成された抵抗体パターンと、被測定体の動作量に対応して前記抵抗体パターンの長手方向に沿って移動される非磁性体によって構成された保持体と、この保持体に前記抵抗体パターンと小間隔で対向するように取り付けられ、前記抵抗体パターンの幅方向に着磁された永久磁石とを具備し、この永久磁石は前記抵抗体パターンに飽和磁界が印加できるように着磁設定されるようにしたことを特徴とする非接触型ポテンショメータ。
IPC (3件)：
H01L 43/02
, G01B 7/30 101
, H01C 10/00
