特許
J-GLOBAL ID：200903074883578995
位相シフトマスクとその製造方法そしてそれに用いるブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-073225
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289589
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】ハーフトーン型の位相シフト部を有する位相シフトマスクであり、従来のフォトマスクと同様の投影露光装置に装填して支障無く使用でき、且つ高精度なパターンを形成することが可能な位相シフトマスクとそれを容易に安定して得られる製造方法とそれに用いるブランクを提供する。【構成】位相シフトマスクが、特に透明基板1に少なくとも遮光部7、光透過部、光半透過部3そして位相シフト部5を備えており、主領域部13が前記光透過部と前記光半透過部3と前記位相シフト部5とで形成され、前記主領域部13を除く部分は少なくとも一部が遮光部7で形成されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板に少なくとも遮光部、光透過部、光半透過部そして位相シフト部を備えた位相シフトマスクにおいて、主領域部が該光透過部と該光半透過部と該位相シフト部とで形成され、該主領域部を除く部分は少なくとも一部が遮光部で形成されていることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
