特許
J-GLOBAL ID:200903074894778899

基板表面の液体を遠心機内で除去する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 沢田 雅男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-059323
公開番号(公開出願番号):特開平5-243205
出願日: 1991年03月01日
公開日(公表日): 1993年09月21日
要約:
【要約】【目的】 基板(1)を遠心機(4)に設置し、この中で回転運動をさせることにより基板(1)の表面(2)から液体(3)を除去する方法において、前記液体(3)を前記表面(2)より遠心分離するようなスピードで前記基板(1)を回転させて除去し、前記表面を清浄にする。【構成】 本発明によれば前記基板(1)は前記液体(3)と混和性のある物質の蒸気と前記遠心機内で接触させ、この物質と混合した場合に前記液体よりも低い表面張力を有する混合物を得る。この工程により、前記表面(2)上に残留する物質の量が非常に減少する。
請求項(抜粋):
基板を遠心機内に設置し、前記基板より液体を遠心分離するようなスピードに前記基板を回転させる回転運動を行ない前記基板表面の液体を去する方法において、前記基板を遠心機内で前記液体と混和性の物質の蒸気に接触させ前記液体と混合して、表面張力を前記液体の表面張力よりも小さくすることを特徴とする基板の表面の液体を除去する方法。
IPC (3件):
H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 ,  F26B 5/08
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭58-200540
  • 特開昭62-142328
  • 特開昭59-207633
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