特許
J-GLOBAL ID：200903074908693697
縮小投影露光用レティクル及びそれに用いるブランク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-062901
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265181
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】位相シフト法を利用した縮小投影露光用レティクルにおいて、位相シフト法適用領域と適用外領域との投影像に対するレティクル寸法変換差の格差をなくす。【構成】レティクルブランクは、石英基板1上に露光波長の透過率を調整するための薄膜クロム層2を有し、その上に位相部材であるケイ素酸化膜3と反射防止酸化クロム層5で反射防止処理を施されたクロム層4とを有する。また、このブランクを用いたレティクルは、選択的にパターニングを施すことによって位相シフト法適用領域のパターン明部には石英基板面に薄膜クロム層2を有し、適用外領域のパターン明部の石英基板面からは薄膜クロム層2は除去されている。この薄膜クロム層2は、露光光の透過率を調整する目的の他に電子線描画時のチャージアップを抑制し、しかも位相部材であるケイ素酸化物3のエッチング時のエッチングストッパーとしての役割を有する。
請求項（抜粋）：
位相シフト法を用いた縮小投影露光用レティクルにおいて、石英基板上に形成された金属層のうち下層の金属合金層と中間層のケイ素酸化物層と最上層の金属合金層とがそれぞれ異なるパターンで選択的に除去されて形成されていることを特徴とする縮小投影露光用レティクル。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 W
