特許

J-GLOBAL ID：200903074927345616

高純度シリカビーズの製造方法

発明者： 本多 誠一 ,  石田 喜造 ,  池田 洋
出願人/特許権者： 日本アエロジル株式会社
代理人 (1件)： 大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160359
公開番号（公開出願番号）：特開平5-330817
出願日： 1992年05月27日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【目的】高純度シリカビーズの製造方法を提供する。【構成】ハロゲン化珪素の火炎中気相加水分解により生成した高純度の超微粒子状シリカを燃焼バーナに導入し、火炎中で溶融した後に気流中で急冷することによりシリカビーズを製造する方法において、疎水化された上記高純度超微粒子状シリカを用いることを特徴とする高純度シリカビーズの製造方法。【効果】粒径100 メッシュ(147μm)以下、特に325 メッシュ(44 μm)以下の範囲にシャープな粒度分布のピークを有する高純度なシリカビーズを容易に得ることができる。また得られるシリカビーズはほぼ完全な球状であり、各種の用途の幅広く用いることができる。

請求項（抜粋）：

ハロゲン化珪素の火炎中気相加水分解により生成した高純度の超微粒子状シリカを燃焼バーナに導入し、火炎中で溶融した後に気流中で急冷することによりシリカビーズを製造する方法において、疎水化された上記高純度超微粒子状シリカを用いることを特徴とする高純度シリカビーズの製造方法。

IPC (5件)：

C01B 33/18 ,  C03B 8/04 ,  C03B 19/10 ,  C03B 19/14 ,  C03B 20/00