特許
J-GLOBAL ID:200903074942926030
電子写真感光体製造方法、及び電子写真感光体、及びそれを用いた電子写真装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
宮崎 昭夫
, 金田 暢之
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-206857
公開番号(公開出願番号):特開2004-133396
出願日: 2003年08月08日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】電子写真感光体の表面に存在しうる球状突起と呼ばれる異常成長部分の影響が画像上に現れず、画像欠陥を大幅に改善可能な電子写真感光体の製造方法を提供する。【解決手段】排気手段に接続され、原料ガス供給手段を備えた真空気密可能な成膜炉内に基体を設置し、原料ガスを高周波電力で分解し、該基体上に非単結晶材料からなる光導電層とC、Siを含む非単結晶材料からなるSiC層(層I)を積層する工程aと、該層Iを積層した基体を酸素及び水蒸気を含むガスに晒す工程bと、再び成膜炉内に該層Iを積層した基体を設置し、原料ガスを高周波電力で分解し、該層I上に非単結晶材料から成る上部阻止層(層II)を積層させる工程cと、該層II上に層IIIとしてC原子を母材とする非単結晶材料からなる表面層を積層させる工程dとを有する電子写真感光体の製造方法;感光体及び装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
非単結晶材料からなる層を含む電子写真感光体の製造方法において、
第1ステップとして、排気手段に接続され、原料ガス供給手段を備えた真空気密可能な成膜炉内に基体を設置し、少なくとも原料ガスを高周波電力により分解し、該基体上に少なくとも非単結晶材料からなる光導電層と、少なくとも、炭素、珪素を含む非単結晶材料からなる炭化珪素層を第1の層として積層する工程と、
第2ステップとして、前記第1の層を積層した基体を酸素および水蒸気を含むガスに晒す工程と、
第3ステップとして、再び成膜炉内に前記第1の層を積層した基体を設置し、少なくとも原料ガスを高周波電力により分解し、前記第1の層上に非単結晶材料から成る上部阻止層を第2の層として積層させる工程と、
第4ステップとして、前記第2の層上に第3の層として炭素原子を母材とする非単結晶材料からなる表面層を積層させる工程とを有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
IPC (2件):
FI (5件):
G03G5/08 360
, G03G5/08 303
, G03G5/08 311
, G03G5/08 333
, C23C16/30
Fターム (38件):
2H068DA05
, 2H068DA14
, 2H068DA23
, 2H068DA55
, 2H068DA56
, 2H068DA57
, 2H068DA64
, 2H068EA43
, 4K030AA01
, 4K030AA06
, 4K030AA07
, 4K030AA08
, 4K030AA10
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030BA28
, 4K030BA30
, 4K030BA37
, 4K030BA40
, 4K030BA42
, 4K030BA55
, 4K030BA56
, 4K030BB05
, 4K030BB12
, 4K030CA02
, 4K030CA05
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030CA16
, 4K030CA17
, 4K030DA03
, 4K030FA01
, 4K030HA17
, 4K030JA01
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA16
, 4K030LA17
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