特許

J-GLOBAL ID：200903074952541853

欠陥検査装置及び欠陥検査方法

発明者： 松浦 俊夫 ,  大場 英俊
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-330664
公開番号（公開出願番号）：特開平7-190947
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】 欠陥検査装置の改善に関し、検査目標領域以外から漏れ出る光を取得しないように工夫して、検査目標領域から漏れ出る光を取得し、欠陥検査精度の向上を図る。【構成】 被検査対象15に光L1を照射する光源11と、被検査対象15に設けられた開口部15Aの一方をマスクする第1の遮光手段12と、被検査対象15の開口部15Aの他方から漏れ出る光L2を検出する光検出手段13と、被検査対象15の開口部15A以外の領域から漏れ出る光L3を遮光制御する第2の遮光手段14とを備える。第2の遮光手段14は、光源11と被検査対象15との間、又は、被検査対象15と光検出手段13との間に設けられる。第2の遮光手段14は液晶パネルから成る。

請求項（抜粋）：

被検査対象(15)に光(L1)を照射する光源(11)と、前記被検査対象(15)に設けられた開口部(15A)の一方をマスクする第1の遮光手段(12)と、前記被検査対象(15)の開口部(15A)の他方から漏れ出る光(L2)を検出する光検出手段(13)と、前記被検査対象(15)の開口部(15A)以外の領域から漏れ出る光を遮光制御する第2の遮光手段(14)とを備えることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/66 ,  H05K 3/00