特許

J-GLOBAL ID：200903074964745900

波面収差測定装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 鈴木 猛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-284600
公開番号（公開出願番号）：特開2009-109444
出願日： 2007年10月31日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：

【課題】 液浸露光装置の投影光学系の波面収差を高精度に測定する波面収差測定装置を提供する。【解決手段】 光源からの光を被検光と参照光とに分離し、投影光学系に前記被検光を入射させる入射光学系と、前記投影光学系から出射される前記被検光を、再び、同一光路で前記投影光学系に向けて反射する反射光学系と、前記反射光学系により反射され前記投影光学系から出射される前記被検光と、前記投影光学系を通過しない前記参照光との干渉により生成された干渉縞を検出する検出器と、を有し、前記投影光学系と基板との間の浸液を介して前記基板を露光する露光装置の前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、前記反射光学系を回転させる回転機構および傾斜させる傾斜機構を有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源からの光を被検光と参照光とに分離し、投影光学系に前記被検光を入射させる入射光学系と、 前記投影光学系から出射される前記被検光を、再び、同一光路で前記投影光学系に向けて反射する反射光学系と、 前記反射光学系により反射され前記投影光学系から出射される前記被検光と、前記投影光学系を通過しない前記参照光との干渉により生成された干渉縞を検出する検出器と、を有し、 前記投影光学系と基板との間の浸液を介して前記基板を露光する露光装置の前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、 前記反射光学系を回転させる回転機構および傾斜させる傾斜機構を有することを特徴とする波面収差測定装置。

IPC (5件)：

G01M 11/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 9/02 ,  G01J 9/02

FI (6件)：

G01M11/02 B ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521 ,  G01B9/02 ,  G01J9/02

Fターム (25件)：

2F064AA00 ,  2F064BB03 ,  2F064BB04 ,  2F064DD01 ,  2F064DD02 ,  2F064DD09 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG11 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG58 ,  2F064GG64 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064KK01 ,  2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DA13 ,  5F046DA27

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 波面収差測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-322997   出願人：キヤノン株式会社
• 形状測定法および形状測定システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-027111   出願人：株式会社ニコン
• 基準面の形状測定法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-012634   出願人：株式会社ニコン