特許

J-GLOBAL ID：200903074982087456

触媒反応装置

発明者： 阿曽 良之
出願人/特許権者： 株式会社日本製鋼所 ,  社団法人農林水産先端技術産業振興センター
代理人 (1件)： 横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-305354
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113351
出願日： 2000年10月04日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】 未反応ガスを効率的に反応処理できる触媒反応装置を提供する。【解決手段】 反応容器1に粉粒状触媒4を収容する収容空間Aを設け、該空間に未反応ガスを導入して通過させるガス流路2を設け、上記触媒4に放電を生じさせる放電用電極5を配置する。【効果】 触媒全体に放電が生じ、この触媒と効率よく接触するガスが高い反応率で反応処理される。

請求項（抜粋）：

未反応ガスと触媒とを接触させてガスを反応処理する触媒反応装置において、粉粒状の触媒を収容する収容空間が設けられ、該空間に未反応ガスが導入され該空間をガスが通過するようにガス流路が設けられており、さらに、前記収容空間に収容された粉粒状触媒に放電を生じさせる放電用電極を有することを特徴とする触媒反応装置

IPC (2件)：

B01J 8/42 ,  B01D 53/86 ZAB

FI (2件)：

B01J 8/42 ,  B01D 53/36 ZAB B

Fターム (13件)：

4D048AA21 ,  4D048BB01 ,  4D048CA07 ,  4D048CB03 ,  4D048CC23 ,  4D048EA03 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BB32 ,  4G070CA01 ,  4G070CA30 ,  4G070CB19 ,  4G070DA21