変位計測装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-067274
公開番号（公開出願番号）：特開平5-272917
出願日： 1992年03月25日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】変位計測装置を小型かつ小光量としながら、高性能化する。【構成】本発明の構成によれば、第1の物体と第2の物体の間で相対的な変位があると、投光手段からの投光ビームのスポット光位置が受光面上で変位する。ここにおいて、光源の発光光束のほぼ全部を半導体位置検出器の受光面上に集光できるため、強力な光源を必要とせず、高分解能の三次元変位と回転変位を計測する変位計測装置を実現させることができる。また、基準となる支持台と被測定物の間隔を長くとる必要がある測定系においても、光源の発光光束のほぼ全光量を二次元用半導体位置検出器(PSD)の受光面上に集光することができるため、近接した測定系と同様の高精度な検出が可能となる利点がある。

請求項（抜粋）：

第1の物体と第2の物体の間の相対的な変位を光学的に計測する変位計測装置において、前記第1の物体に取り付けられた二次元光入射位置検出素子と、前記第2の物体に所定の間隔で取り付けられ、前記二次元光入射位置検出素子の受光面にそれぞれ光ビームを投射する複数の投光手段と、前記受光面における前記光ビームの入射スポット位置の変位量をそれぞれ演算する演算手段とを備え、前記演算された変位量にもとづき前記第1,第2物体間の相対的変位を計測することを特徴とする変位計測装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭63-109305
特開昭61-212707

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