特許

J-GLOBAL ID：200903074989591079

非線形光学材料およびその製造方法

発明者： 真鍋 由雄 ,  三露 常男
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-321579
公開番号（公開出願番号）：特開平6-167729
出願日： 1992年12月01日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 局所電場の増大効果によって非線形光学特性の向上ができ、かつ良好な非線形光学特性を有する非線形光学材料及びその製造方法を提供する。【構成】 スパッタ装置13を用いてCu2 Oと窒化アルミニウムのターゲット1,2に高周波電力を供給して順次シャツター6、7を開閉しスパッタリングを行う。この際、Cu2 O微粒子形成後に、水素ガスの電子サイクロトロン共鳴プラズマを照射して、Cu2 O微粒子の上面をCuに還元してCu2 OとCuの複合微粒子を形成し、次いで窒化アルミニウムの非晶質薄膜を形成する。この一連の行程を繰り返し行って非線形光学材料を得る。

請求項（抜粋）：

Cu2 O、Ag2 O、Pb2 Oから選ばれた1種の酸化物半導体の微粒子の表面の一部を前記酸化物半導体を構成する金属材料の薄膜によって覆われた複合微粒子が、前記酸化物半導体より大きな光学的バンドギャップを有する炭化物または窒化物非晶質膜中に分散されてなる非線形光学材料。