特許
J-GLOBAL ID：200903075001454027
微小電極、プローブ及び微小電極の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-061037
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262042
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】 微小電極を1μm以下という微細なスケールで、かつ、任意の形状に作製する。【構成】 シリコン基板1と、シリコン基板1上の微小な領域に開口部3を有する電気絶縁性皮膜2と、開口部3に形成された電気伝導性層4とを有する。
請求項（抜粋）：
シリコン基板と、前記シリコン基板上の微小な領域に開口部を有する電気絶縁性皮膜と、前記開口部に形成された電気伝導性層とを有することを特徴とする微小電極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 37/00 H
, G01R 1/067 Z
