特許
J-GLOBAL ID:200903075002165606
ガス冷却塔および焼却システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 黒木 義樹
, 大野 新
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-360702
公開番号(公開出願番号):特開2007-163048
出願日: 2005年12月14日
公開日(公表日): 2007年06月28日
要約:
【課題】 ガス冷却塔下部への粉塵の蓄積やガス冷却塔の腐食を軽減する。【解決手段】 焼却システム10は、焼却炉12、2次燃焼室14、ガス冷却塔100、エアヒータ16、減温塔18、バグフィルタ20およびスタック22を備えて構成されている。ガス冷却塔本体102の下部には、排ガス中の粉塵を集めて排出する粉塵排出部110が設けられている。粉塵排出部110には、ガス冷却塔本体102から排出される排ガスの一部を排出するための排ガスバイパス口116が設けられている。排ガスバイパス口116には、排ガスバイパス口116から排出される排ガスの流量を調節する流量調節弁118が設けられている。排ガスバイパス口116から排ガスの一部が排出されることにより、ガス冷却塔100の下部の温度を保ち、ガス冷却塔下部への粉塵の蓄積やガス冷却塔の腐食を軽減することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
粉塵を含む排ガスが導入されるガス導入口と、
前記ガス導入口から導入された排ガスが流通するガス冷却塔本体と、
前記ガス冷却塔本体を流通する排ガスに水を噴射して冷却する水噴射手段と、
前記水噴射手段によって冷却された排ガスを排出するガス排出口と、
前記ガス冷却塔本体を流通する排ガスから分離した粉塵を排出する粉塵排出手段と、
を備え、
前記粉塵排出手段には、前記ガス導入口から導入された排ガスの一部を排出する排ガスバイパス口を有する、
ガス冷却塔。
IPC (4件):
F23J 15/06
, B01D 47/06
, B01D 46/02
, B01D 51/00
FI (4件):
F23J15/00 K
, B01D47/06 Z
, B01D46/02 Z
, B01D51/00 B
Fターム (14件):
3K070DA07
, 3K070DA32
, 3K070DA37
, 3K070DA50
, 3K070DA66
, 3K070DA75
, 4D032AC05
, 4D032BA05
, 4D032CA01
, 4D058JA04
, 4D058QA05
, 4D058QA23
, 4D058SA20
, 4D058UA03
引用特許:
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