特許

J-GLOBAL ID：200903075004581453

画質の改良方法

発明者： チア-ヒュー チャン ,  アンドリュー マー ,  タイ ホン グエン ,  ハリー ヨセフ エバース ,  フゴ ステフェン ラバー
出願人/特許権者： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-262848
公開番号（公開出願番号）：特開平10-097059
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 光重合可能な材料における散乱光および拡散光によって引き起こされる望ましくない重合を減少し、そして該光重合可能な材料への光照射によって形成された最終の現像された画像の品質および解像度を改良するための方法を提供する。【解決手段】 光重合可能な材料に、N-オキシルもしくはニトロキシド化合物、キノンメチド、ニトロソ化合物、ガルビノキシル、フェノチアジン、ヒドロキノンおよび選択されたフェノールからなる群より選択された有効抑制量の抑制剤を添加することからなり、該抑制剤の量は、拡散光または散乱光による重合を防止または軽減するために十分であるが、しかし光によって直接に照射された該光重合可能な材料の重合を妨げるためには不十分である方法。

請求項（抜粋）：

光重合可能な材料における散乱光および拡散光によって引き起こされる望ましくない重合を減少し、そして該光重合可能な材料への光照射によって形成された最終の現像された画像の品質および解像度を改良するための方法であって、該光重合可能な材料に、N-オキシルもしくはニトロキシド化合物、キノンメチド、ニトロソ化合物、ガルビノキシル、フェノチアジン、ヒドロキノンおよび選択されたフェノールからなる群より選択された有効抑制量の抑制剤を添加することからなり、該抑制剤の量は、拡散光または散乱光による重合を防止または軽減するために十分であるが、しかし光によって直接に照射された該光重合可能な材料の重合を妨げるためには不十分である方法。

IPC (4件)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/028 ,  C08F 2/40 ,  C08F 2/48

FI (4件)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/028 ,  C08F 2/40 ,  C08F 2/48