特許

J-GLOBAL ID：200903075004628069

基板の光洗浄方法

発明者： 入江 則行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-277855
公開番号（公開出願番号）：特開平11-116281
出願日： 1997年10月09日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】【課題】 光学薄膜、しいては光学部材のレーザー耐久性を低下させ、光学部材の寿命を短くする原因となる有機物等を除去することが可能な洗浄方法を提供する。【解決手段】 基板上に光学薄膜を成膜する前に、エネルギー密度が0.6J/cm2〜10J/cm2 の紫外線を照射して前記基板表面を洗浄することを特徴とする基板の光洗浄方法。

請求項（抜粋）：

基板上に光学薄膜を成膜する前に、エネルギー密度が0.6J/cm2〜10J/cm2 の紫外線を照射して前記基板表面を洗浄することを特徴とする基板の光洗浄方法。

IPC (5件)：

C03C 23/00 ,  B01J 19/12 ,  B08B 7/00 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/12

FI (5件)：

C03C 23/00 ,  B01J 19/12 Z ,  B08B 7/00 ,  G02B 1/12 ,  G02B 1/10 Z