特許
J-GLOBAL ID：200903075004863556

反射型投影露光マスク

発明者：
原口 崇

原口 崇 について

, 
松尾 正

松尾 正 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-160098
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353123
出願日： 2001年05月29日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】反射膜の反射率を低減させることなく良好な転写特性を得ることができる反射型投影露光マスクを提供することを目的とする。【解決手段】支持基板1上に設けられた軟X線あるいは真空紫外線を反射させるための多層膜からなる反射膜2と、X線を吸収する吸収体パターン4aとの間にエッチングストッパーパターン3aが設けられており、吸収体層4エッチング時の反射膜2の損傷を無くすとともに、反射膜の反射効率低下を防ぐように、エッチングストッパー層に開口部を形成し、エッチングストッパー開口部の開口幅SWが、吸収体開口部の開口幅OWよりも大きくなっていることを特徴とする反射型投影露光マスクである。
請求項（抜粋）：
支持基板上に、軟X線あるいは真空紫外線を反射させることを目的とした単層膜を含む多層膜層からなる反射膜及び軟X線あるいは真空紫外線を吸収する吸収体パターンを備えた反射型投影露光マスクにおいて、前記反射膜と前記吸収体パターンとの間に開口部を有するエッチングストッパー層が設けられており、エッチングストッパー開口部の開口幅が吸収体開口部の開口幅よりも大きくなっているいることを特徴とする反射型投影露光マスク。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2件)：
G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M
Fターム (8件)：
2H095BA09 ,  2H095BA10 ,  2H095BB02 ,  2H095BC19 ,  2H095BC24 ,  5F046GD07 ,  5F046GD10 ,  5F046GD15
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM