基板処理方法及び基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-235645
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087292
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】処理の不均一や処理の仕上がり精度の悪化、基板の汚染などの不都合の発生を抑制して2種類の処理液を用いた基板処理を好適に行う。【解決手段】基板を回転させながら、薬液供給時間MTの間薬液を基板の回転中心付近に供給して薬液洗浄処理を行う。そして、薬液供給時間MTの終了後、所定時間基板に薬液及び純水が供給されないインターバル時間ITを経てから、純水供給時間PTの間純水を基板の回転中心付近に供給してリンス処理を行う。

請求項（抜粋）：

基板を回転させながら、所定の第1処理液供給時間の間第1の処理液を基板に供給して第1の処理を行い、それに続いて所定の第2処理液供給時間の間第2の処理液を基板に供給して第2の処理を行う基板処理方法において、前記第1処理液供給時間と前記第2処理液供給時間との間に、所定時間基板に第1の処理液及び第2の処理液が供給されないインターバル時間を設けたことを特徴とする基板処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 M , H01L 21/304 341 Z , H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-032448 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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