特許

J-GLOBAL ID：200903075013016726

光フアイバ用多孔質母材の精製方法

発明者： 八木 健 ,  佐藤 継男 ,  肥沼 宜明 ,  吉田 和昭
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 広志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211458
公開番号（公開出願番号）：特開平5-032429
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：

【要約】【構成】 光ファイバ用多孔質母材を炭素を含む塩素ガス雰囲気中で加熱処理する。あるいは炭素を含む光ファイバ用多孔質母材を塩素ガス雰囲気中で加熱処理する。【効果】 炭素の還元力により、多孔質母材中に含まれるAl2 O3 などの安定な酸化物も塩化物の気体となるため除去できる。このため光ファイバの光学的特性が安定し、光ファイバの製造歩留りが向上する。

請求項（抜粋）：

光ファイバ用多孔質母材を炭素を含む塩素ガス雰囲気中で、あるいは炭素を含む光ファイバ用多孔質母材を塩素ガス雰囲気中で、加熱処理することを特徴とする光ファイバ用多孔質母材の精製方法。

IPC (4件)：

C03B 37/014 ,  C03B 8/00 ,  C03B 20/00 ,  G02B 6/00 356

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-256545