特許
J-GLOBAL ID：200903075015091610
膜厚均一化装置ならびに真空蒸着方法および真空蒸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336385
公開番号（公開出願番号）：特開平10-317128
出願日： 1997年11月19日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：
【要約】【課題】 蒸着材料の残量に係わらず、周辺部に配置された基板でも目的の膜厚を得る。【解決手段】 シャッタ118を開放するとルツボ116内の蒸発材料からの蒸気が上昇し、基板ホルダ108上の各水晶振動子32、34、36、38に付着して薄膜を形成する。ここで、各水晶振動子に形成される薄膜の厚さに差がある場合には、各水晶振動子の振動数が異なったものとなる。制御手段44は、この振動数の差にもとづいて、各調整板16、18、20を移動させ、膜厚補正手段4の幅を、基板ホルダ108の半径方向における各位置で調整して、基板ホルダ108上のどの位置に配置されたガラス基板154でも同じ膜厚の薄膜が形成されるようにする。
請求項（抜粋）：
真空チェンバ内に複数の基体を基体ホルダで支持し、前記基体ホルダを回転させつつ蒸着により前記基体上に薄膜を形成する真空蒸着装置において用いる膜厚均一化装置であって、前記基体ホルダと蒸発源との間の前記基体ホルダ寄りの箇所に配置されて、前記蒸発源からの蒸気を遮る膜厚補正手段を含み、前記膜厚補正手段は、前記基体ホルダの回転の中心から遠ざかる方向に延設され、前記蒸発源から見て、前記膜厚補正手段の延在方向に直交する方向における前記膜厚補正手段の幅が、前記膜厚補正手段の延在方向での異なる位置ごとに可変である、ことを特徴とする膜厚均一化装置。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, C23C 14/54
, G02B 1/11
C23C 14/24 U
, C23C 14/54 C
, C23C 14/54 E
, G02B 1/10 A
