塗布装置及び塗布方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032981
公開番号（公開出願番号）：特開平11-267570
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】塗膜厚みが均一でムラ故障のない薄層塗布製品を、高速で安定して製造できる塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】本発明においては、支持体移動方向Vに対して上流側に位置するフロントエッジ2と、下流側に位置し、フロントエッジ2との間にスリット4を形成すると共にその先端がフロントエッジ2のスリット出口部における接線よりも反支持体方向に後退して位置している一つ以上のバックエッジ3とを有するエクストルージョン型塗布ヘッド10により、支持体1の塗布面に、当該塗布面に予め有機溶剤を主体とする液体6を塗布して液封した状態で、塗布液Aを塗布する。塗布液Aを吐出するスリット4の、支持体幅方向のクリアランス精度はクリアランス平均値に対して5%以内に設定され、フロントエッジ2及びバックエッジ3の各エッジ面5,7の支持体幅方向の真直度は30μm以下に設定されている。

請求項（抜粋）：

支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、支持体移動方向に対して下流側に位置し、前記フロントエッジとの間にスリットを形成すると共にその先端が前記フロントエッジのスリット出口部における接線よりも反支持体方向に後退して位置している一つ以上のバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドにより、前記支持体の塗布面に、当該塗布面に予め有機溶剤を主体とする液体を塗布して液封した状態で、塗布液を塗布する塗布装置において、前記塗布液を吐出するスリットの前記支持体の幅方向のクリアランス精度がクリアランス平均値に対して5%以内であると共に、前記フロントエッジ及び前記バックエッジの各エッジ面の支持体幅方向の真直度を30μm以下にしたことを特徴とする塗布装置。

IPC (2件)：

B05C 5/02 , B05D 1/26

FI (2件)：

B05C 5/02 , B05D 1/26 Z

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-020069
特開昭63-020069
特開平3-286426

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