特許
J-GLOBAL ID:200903075016649347
プラズマCVM排ガスの精製回収方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-035197
公開番号(公開出願番号):特開平9-228077
出願日: 1996年02月22日
公開日(公表日): 1997年09月02日
要約:
【要約】【課題】 プラズマCVM装置内の使用済み排ガスを循環再使用するための精製回収方法を提供する。【解決手段】 装置内のハロゲンガスを含むガスを反応性を有する金属(Si,Ti,Ge,W,Mo,Fe,Cr,Mn,Co,Zn,Sn,Pb,Zr)、次にアルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物(ソーダライム、NaOH,KOH,Ca(OH)2,CaO,Mg(OH)2,MgO)、さらにゼオライトと順次接触させる。
請求項(抜粋):
プラズマCVM装置内のハロゲンガスを含むガスを反応性を有する金属、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物、さらにゼオライトと順次接触させるようにしたことを特徴とするプラズマCVM排ガスの精製回収方法。
IPC (4件):
C23F 4/00
, B01D 53/68
, C23C 16/44
, H01L 21/3065
FI (4件):
C23F 4/00 A
, C23C 16/44 E
, B01D 53/34 134 C
, H01L 21/302 A
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