特許
J-GLOBAL ID:200903075018905618

反射型アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-184084
公開番号(公開出願番号):特開平6-027481
出願日: 1992年07月10日
公開日(公表日): 1994年02月04日
要約:
【要約】【目的】 波長依存性が少ない良好な反射特性を有し、しかも再現性良く製造できるようにする。【構成】 ガラス基板11に高さが異なる2つの凸部14a、14bを形成し、その凸部14a、14bが形成されたガラス基板11の上に高分子樹脂膜15を形成する。これにより、高分子樹脂膜15の上表面は連続する波状となる。この上に、光反射機能を有する絵素電極19を形成すると、絵素電極19も高分子樹脂膜15の上表面と同様の形状となり、波長依存性の少ない白色反射が得られることとなる。また、凸部14a、14bは、フォトマスク13を用いた光学的手法により形成するので、再現性のよい反射特性が得られる。
請求項(抜粋):
絶縁性基板上に、光反射機能を有する材料からなる絵素電極がマトリクス状に配設され、該絵素電極の上表面が連続する波状に形成された反射型アクティブマトリクス基板。
IPC (2件):
G02F 1/1343 ,  G02F 1/1333
引用特許:
審査官引用 (25件)
  • 特開昭58-127970
  • 特開昭58-130380
  • 特開昭58-136085
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