フォトソルダーレジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-126174
公開番号（公開出願番号）：特開平8-320564
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】フォト法で画像形成可能でありながら優れた物理的特性を与えられるフォトソルダーレジスト組成物の提供。【構成】(A)分子内にカルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂および(B)シリコーンプレポリマーを含むフォトソルダーレジスト組成物。【効果】本発明の組成物は、耐薬品性、耐溶剤性、耐水性、耐湿性、耐湿負荷性、耐メッキ性等が著しく優れるため、メッキ工程等で密着性の低下によるトラブルが発生することは無い。また、低誘電率を実現するフォトソルダーレジスト皮膜が得られるため、高周波特性にも優れる。さらに、低膨張率であるため、チップオンボード、マルチチップモジュール等の技術に対応可能となる。

請求項（抜粋）：

(A)分子内にカルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂および(B)シリコーンプレポリマーを含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物

IPC (3件)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/038 501 , H05K 3/06

FI (3件)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/038 501 , H05K 3/06 H

前のページに戻る