特許

J-GLOBAL ID：200903075026903446

消毒副生成物の濃度管理方法及び装置

発明者： 川上 幸次
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 松井 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-192087
公開番号（公開出願番号）：特開2004-033846
出願日： 2002年07月01日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】トリハロメタン等の消毒副生成物の濃度を精度良く予測して、管理、低減化するための方法および装置を提供する。【解決手段】水道原水中の有機物を除去するための活性炭処理工程と、前記水道原水を塩素消毒するための塩素処理工程とを少なくとも含む水道原水の浄水工程において、水道原水のトリハロメタン生成能測定手段71と、水道原水のpH測定手段72と、水道原水の水温測定手段73と、塩素処理時間及び活性炭注入率、又は、塩素処理時間及び消毒副生成物の生成許容濃度を入力する条件入力手段74とに基づいて、演算手段75により消毒副生成物の予測濃度、又は活性炭注入率を算出する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

水道原水中の有機物を除去するための活性炭処理工程と、前記水道原水を塩素消毒するための塩素処理工程とを少なくとも含む水道原水の浄水工程における消毒副生成物の濃度管理方法において、 前記水道原水のトリハロメタン生成能と、前記水道原水のpHと、前記水道原水の水温と、前記塩素処理工程における塩素処理時間と、前記活性炭処理工程における活性炭注入率とに基づいて、前記浄水工程により生成する消毒副生成物の予測濃度を算出することを特徴とする消毒副生成物の濃度管理方法。

IPC (3件)：

C02F1/50 ,  C02F1/28 ,  C02F1/76

FI (8件)：

C02F1/50 550L ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 531N ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 560B ,  C02F1/28 D ,  C02F1/76 A

Fターム (14件)：

4D024AA01 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4D024BC04 ,  4D024DA03 ,  4D024DA04 ,  4D024DB30 ,  4D050AA03 ,  4D050AB06 ,  4D050BB05 ,  4D050BC05 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06