特許
J-GLOBAL ID：200903075057200664
ペリクルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-106627
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317895
出願日： 1993年05月07日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明はフッ素系ポリマーのように体積抵抗率の高い材料から作られたペリクル膜を成膜用基板から容易に剥離して傷、しわや破れのないペリクル膜を得るペリクルの製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明によるペリクルの製造方法は、ペリクル膜の成膜用基板からの剥離をイオン化された雰囲気中で行なうことを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
ペリクル膜の成膜用基板からの剥離をイオン化された雰囲気中で行うことを特徴とするペリクルの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, H01L 21/027
, C08J 5/18
