特許
J-GLOBAL ID：200903075067115436
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117289
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142414
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】処理用ガスをマイクロ波でプラズマ化して被処理体表面の処理を行うプラズマ処理装置を、マイクロ波導波管と,装置本体のプラズマ処理室との間に介装されてマイクロ波を透過させる,誘電体からなる板状の真空窓の熱破壊を生じることなく大電力マイクロ波をプラズマ処理室へ導入可能な装置とする。【構成】真空窓4の材質を、誘電体として金属なみに高い熱伝導率と一般の無機質誘電体より大幅に小さい熱膨張係数とを有するとともに耐蝕性がAl2 O3と同等以上に高い窒化アルミニウムとする。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発生手段と、マイクロ波伝達手段と、誘電体からなる板状の真空窓を介してマイクロ波伝達手段と結合されるプラズマ処理室と、プラズマ処理室の排気手段とを備え、プラズマ処理室に導入されたガスを真空窓を透過したマイクロ波でプラズマ化してプラズマ処理室内の被処理体に薄膜形成,食刻あるいは灰化等の処理を行うプラズマ処理装置において、前記マイクロ波を透過させる真空窓の材質を窒化アルミニウムとしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/3065
