特許
J-GLOBAL ID：200903075069224887
研磨処理モニター装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-020328
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223578
出願日： 1997年02月03日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 気泡の無い液カーテンを形成して研磨対象の膜の膜厚を測定する。【解決手段】 研磨装置に備えられ、基板Wの表面に塗布された膜を研磨する研磨処理中に、研磨対象の膜の膜厚を測定して研磨処理の進行状況をモニターするための研磨処理モニター装置1において、基板Wの表面からの反射光の分光スペクトルを計測する計測ユニット2の計測窓21と基板Wの表面との間の計測領域55に洗浄液を満たして液カーテンを形成する。液カーテン制御部9は、計測領域55内の気泡によって計測ユニット2で計測される反射光の分光スペクトルに生じる気泡特性変化を調べながら、その気泡特性変化を無くすように昇降駆動機構4を制御して計測窓21と基板Wの表面との間隔をフィードバック制御により調節する。
請求項（抜粋）：
研磨装置に備えられ、基板表面に塗布された膜を研磨する研磨処理中に、前記研磨対象の膜の膜厚を測定して研磨処理の進行状況をモニターするための研磨処理モニター装置において、前記基板表面に対向される計測窓を有し、前記計測窓を介して前記基板表面へ計測光を照射し、前記計測窓を介して前記計測光の前記基板表面からの反射光を取り込み、その反射光の分光スペクトルを計測する分光スペクトル計測手段と、前記分光スペクトル計測手段で計測される反射光の分光スペクトルを解析して前記研磨対象の膜の膜厚を求める膜厚演算手段と、前記計測窓と前記基板表面との間の計測領域に洗浄液を満たして前記計測領域にその液のカーテンを形成する液カーテン形成手段と、前記計測窓と前記基板表面とを接離させる接離手段と、前記計測領域内に存在する気泡によって前記分光スペクトル計測手段で計測される反射光の分光スペクトルに生じる特性変化(以下、「気泡特性変化」という)を調べながら、その気泡特性変化が無くなるように前記接離手段を制御して前記計測窓と前記基板表面との間隔をフィードバック制御により調節する制御手段と、を備えたことを特徴とする研磨処理モニター装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 321
, G01B 11/06
, G05D 5/02
H01L 21/304 321 M
, G01B 11/06 Z
, G05D 5/02
