特許
J-GLOBAL ID：200903075090961859
ガス流併用光ビームはんだ付け装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-319672
公開番号（公開出願番号）：特開平6-170522
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 光エネルギーを用いたはんだ付けで、プリント基板の焼損やレンズ汚れ防止のため、ガス流を併用。【構成】 光2が被はんだ付け部を照射するようにレンズ1を位置決めし、被はんだ付け部またはその近傍の焼損可能材料の焼損温度より低く室温より高いガス5を被はんだ付け部に吹きつけるノズル4をレンズと一定の位置関係で保持させ、比較的活性度の弱いガス或いは不活性ガスを用い、ガスの流速を溶融はんだやフラックス等を吹き飛ばさない流速以下の最大値とし、ノズルのガス流出口に設けたガス温度検知手段と、ガス加熱、ガス流量制御、流出ガス温度を一定にするフィードバック制御の各手段を備え、ガス圧またはガス流量が一定値以下になるとガス加熱を停止しかつはんだ付けを停止する手段を備え、ガス流の吹き付け範囲が光の当たる範囲よりも低くしている。
請求項（抜粋）：
光エネルギーを出射するレンズをロボット等の位置決め機構或いは単に機械的な保持機構に保持して、レンズから放射される光の焦点近傍の光が被はんだ付け部を照射するようにレンズを位置決めし、この被はんだ付け部に、室温よりも高く被はんだ付け部或いはその近傍の焼損可能材料の焼損温度よりも低い温度のガスを吹き付けるノズルを、前記のロボット等の位置決め機構或いは単なる機械的な保持機構に前記のノズルと一定の位置関係で保持させたことを特徴とするガス流併用光ビームはんだ付け装置。
IPC (3件)：
B23K 1/005
, B23K 1/012
, H05K 3/34
