特許

J-GLOBAL ID：200903075103111280

透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス

発明者： 西川 和浩 ,  高山 亜弓
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147167
公開番号（公開出願番号）：特開平11-343138
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】 熱膨張係数が60〜70台×10ー7/°Cの表示装置用基板ガラスと類似し、PbO 含有量を抑制し、かつ軟化点が低く、透明絶縁性被膜形成用に好適な低融点ガラスを得る。【解決手段】 表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、ガラスの成分組成がwt%で、SiO2 5〜10、B2O3 15〜30、Al2O3 0〜5、ZnO 10〜25、PbO 40〜60の範囲で含み、かつ軟化点が 490〜530 °C、常温〜 300°Cまでの熱膨張係数が65〜75×10ー7/°Cである透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。

請求項（抜粋）：

表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、ガラスの成分組成が、wt%で、SiO2 5〜10、B2O3 15〜30、Al2O3 0〜5、ZnO 10〜25、PbO 40〜60の範囲で含み、かつ軟化点が 490〜530 °C、常温〜 300°Cまでの熱膨張係数が65〜75×10ー7/°Cであることを特徴とする透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。

IPC (3件)：

C03C 3/074 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (3件)：

C03C 3/074 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B