特許
J-GLOBAL ID：200903075105256022
光触媒反応装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-113119
公開番号（公開出願番号）：特開平8-299786
出願日： 1995年05月11日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：
【要約】【目的】 気体中の汚染物質や悪臭物質、浮遊菌等を効率良く分解、除去する光触媒反応装置を提供する。【構成】 本発明の光触媒反応装置は、ガス導入口(11)を有する反応容器(60)、ガス導入口から反応容器内に導入されたガスにX線を照射するX線照射手段(20)、反応容器内に電界を生じさせる電界発生手段(40)、及び電界内に配置された光触媒フィルタ(30〜32)であってX線照射手段からのX線が照射されるものから構成されている。反応容器内に導入されたガスにX線が直接照射される結果、ガス中のガス状汚染物質や浮遊菌は効率良く電離、帯電される。イオン化したガス状汚染物質や帯電した浮遊菌は反応容器内で発生した電界の電気的引力により光触媒に引き寄せられて効率良く光触媒に吸着し、光触媒作用によって分解、殺菌され除去される。
請求項（抜粋）：
ガス導入口を有する反応容器と、前記ガス導入口から前記反応容器内に導入されたガスにX線を照射するX線照射手段と、前記反応容器内に電界を生じさせる電界発生手段と、前記電界内に配置された光触媒であって前記X線照射手段からのX線が照射されるものと、を備える光触媒反応装置。
IPC (3件)：
B01J 19/12
, B01D 53/86
, B01J 35/02
B01J 19/12 A
, B01J 35/02 J
, B01D 53/36 J
