特許
J-GLOBAL ID:200903075114821131

化粧下地料および化粧方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-192533
公開番号(公開出願番号):特開平9-025218
出願日: 1995年07月04日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【課題】化粧効果持続性に優れた化粧下地料および化粧方法を提供する。【解決手段】分子内にシラノール基を有するフッ素変性シリコーン樹脂であって、下記の構造を有する化合物を配合した化粧下地料、および化粧下地料を使用した後、粉体含有化粧料を使用することを特徴とした化粧方法。平均式 R1 n SiO(4-n)/2(但し、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基、フェニル基、水酸基、もしくは一般式-R2 -Rfであって、水酸基および一般式-R2 -Rfを必須とする官能基から任意に選ばれ、R2 は炭素数2〜6の二価のアルキレン基、Rfは炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基であり、nは平均数で1.0≦n≦1.8である。)
請求項(抜粋):
分子内にシラノール基を有するフッ素変性シリコーン樹脂であって、下記の構造を有する化合物を配合した化粧下地料。平均式 R1 n SiO(4-n)/2(但し、R1 は炭素数1〜8の炭化水素基、フェニル基、水酸基、もしくは一般式-R2 -Rfであって、水酸基および一般式-R2 -Rfを必須とする官能基から任意に選ばれ、R2 は炭素数2〜6の二価のアルキレン基、Rfは炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基であり、nは平均数で1.0≦n≦1.8である。)
IPC (4件):
A61K 7/02 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C08G 77/24 NUH
FI (4件):
A61K 7/02 P ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/48 ,  C08G 77/24 NUH
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-192530   出願人:鐘紡株式会社
  • 特開平4-312511
  • 経皮吸収抑制組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-315984   出願人:株式会社資生堂
審査官引用 (2件)
  • 化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-192530   出願人:鐘紡株式会社
  • 特開平4-312511

前のページに戻る