特許

J-GLOBAL ID：200903075123111678

荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法

発明者： 山田 章夫 ,  坂本 樹一 ,  川島 憲一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-187759
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036592
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 繰り返しパターンの単位となる基本パターンの開口を有するマスクを用いて1ショットで当該基本パターンを試料上に露光する荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法に関し、マスクに形成されたパターンの種類以上の種類のパターンを高速で露光することを目的とする。【構成】 マスク12に対する偏向手段を第1のブロック偏向器15と第2のブロック偏向器16の2系統設ける。第2のブロック偏向器16はマスク12上の複数種類のパターンのうち所望の一のパターンを選択する。第1のブロック偏向器15は上記選択された一のパターンに対するマスク12上での照射範囲を設定する。

請求項（抜粋）：

複数種類のパターンの開口が形成されたマスク(12)を備え、荷電粒子線発生源(11)からの荷電粒子線を偏向して該マスク(12)上の複数種類のパターンのうちの所望の一のパターンの開口に選択的に入射し、該マスク(12)を透過した荷電粒子線を断面縮小、偏向走査及び投影を行なう電子光学系(13)を通して試料(14)上に露光する荷電粒子線露光装置において、前記荷電粒子線の前記マスク(12)のあるパターンの開口に対し、その照射範囲を設定し偏向する第1のブロック偏向器(15)と、前記偏荷電粒子線を偏向して前記マスク(12)上の前記所望の一のパターンの開口へ選択入射させると共に、該マスク(12)を透過した荷電粒子線を再度光軸に戻す第2のブロック偏向器(16)と、前記第1のブロック偏向器(15)に対しては補正ディジタル演算した信号を入力し、前記第2のブロック偏向器(16)に対しては前記マスク(12)上の各パターンに対して予め1:1に対応して設定した値のうち前記所望の一のパターンの設定値を入力する露光制御部(17)とを有し、前記マスク(12)上の複数種類のパターンのうち所望のパターンを選択し、更に該選択パターン上で荷電粒子線の照射範囲を設定してパターン露光することを特徴とする荷電粒子線露光装置。

FI (3件)：

H01L 21/30 341 B ,  H01L 21/30 341 S ,  H01L 21/30 341 J